十萬級(jí)半導(dǎo)體無塵室工程配電、噪音、氣流標(biāo)準(zhǔn)

一、十萬級(jí)半導(dǎo)體無塵室標(biāo)準(zhǔn)之溫度、濕度，以穿著潔凈工作服不產(chǎn)生舒服感為宜，溫度一般控制在冬季20~22℃;夏季 24~26℃;波動(dòng)±2℃。冬季凈化車間濕度控制在30-50%，夏季凈化車間濕度控制在50-70%。

1、配電：主要生產(chǎn)用房一般照度值宜≥300Lx;輔助工作室、人員凈化和物料凈化用室、氣閘室、走廊等的照度值宜為200~300Lx。

二、噪聲的控制：

1、動(dòng)態(tài)測(cè)試時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)的噪聲級(jí)不應(yīng)超過70分貝A。

2、靜態(tài)測(cè)試時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)的噪聲級(jí)不宜大于60分貝A。

三、氣流組織：

1、十萬級(jí)半導(dǎo)體無塵室標(biāo)準(zhǔn)之主要采用的送風(fēng)方式：

(1)局部孔板頂棚送風(fēng) ;

(2)帶擴(kuò)散板高效空氣過濾器頂棚送風(fēng);

(3)上側(cè)墻送風(fēng) 等三種送風(fēng)方式。

2、十萬級(jí)半導(dǎo)體無塵室標(biāo)準(zhǔn)之主要采用的回風(fēng)方式：

(1)單側(cè)墻下部布置回風(fēng)口;(2)當(dāng)采用走廊回風(fēng)時(shí)，在走廊內(nèi)均勻布置回風(fēng)口或在走廊端部集中設(shè)置回風(fēng)。

以上就是本篇文章全部講解，想必您讀到這里，一定對(duì)為你解答疑惑十萬級(jí)半導(dǎo)體無塵室工程的標(biāo)準(zhǔn)有了一定的認(rèn)識(shí)，希望對(duì)您有所幫助。

四.芯片、半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)境的要求

由于電子產(chǎn)品在制造、生產(chǎn)過程中對(duì)室內(nèi)空氣環(huán)境和品質(zhì)的要求極為嚴(yán)格，主要以控制微粒和浮塵為主要對(duì)象，同時(shí)還對(duì)其環(huán)境的溫濕度、新鮮空氣量、噪聲等作出了嚴(yán)格的規(guī)定。

（1）室內(nèi)的噪聲級(jí)（空態(tài)）：不應(yīng)大于65dB(A)。

（2）垂直流潔凈室滿布比不應(yīng)小于60%，水平單向流潔凈室不應(yīng)小于40%，否則就是局部單向流了。

（3）與室外的靜壓差不應(yīng)小于10Pa，不同空氣潔凈度的潔凈區(qū)與非潔凈區(qū)之間的靜壓差不應(yīng)小于5Pa。

（4）潔凈室內(nèi)的新鮮空氣量應(yīng)取下列二項(xiàng)中的最大值。

（5）補(bǔ)償室內(nèi)排風(fēng)量和保持室內(nèi)正壓值所需的新鮮空氣量之和。

（6）保證供給潔凈室內(nèi)每人每小時(shí)的新鮮空氣量不小于40m3。

（7）凈化空調(diào)系統(tǒng)加熱器，應(yīng)設(shè)置新風(fēng)，超溫?cái)嚯姳Ｗo(hù)，若采用點(diǎn)加濕時(shí)應(yīng)設(shè)置無水保護(hù)，寒冷地區(qū)，新風(fēng)系統(tǒng)應(yīng)設(shè)置防凍保護(hù)措施，無塵室的送風(fēng)量。

五.復(fù)雜設(shè)計(jì)施工與高建造費(fèi)用

電子芯片潔凈車間有著嚴(yán)格的潔凈度要求，可想而知，其設(shè)計(jì)施工也是相當(dāng)復(fù)雜的。此外，潔凈度越高，建造費(fèi)用也越高。例如100級(jí)單向流潔凈室，僅室內(nèi)裝修與空調(diào)潔凈系統(tǒng)的建造費(fèi)用就要萬元或以上一平方。再加上消防、三廢、供配電和自控系統(tǒng)，建造費(fèi)用就要更高了。

當(dāng)完成電子芯片潔凈車間的建造后，還要經(jīng)過3方面的驗(yàn)收，即：空態(tài)驗(yàn)收、靜態(tài)驗(yàn)收、動(dòng)態(tài)驗(yàn)收，只有完成驗(yàn)收才能投入日常使用。因此，面臨巨大的技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)，以及后續(xù)運(yùn)行、維護(hù)和調(diào)試、檢測(cè)的壓力。

六.半導(dǎo)體芯片溫濕度控制

半導(dǎo)體潔凈室中相對(duì)濕度的目標(biāo)值大約控制在30%至50%的范圍內(nèi)，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi)，例如光刻區(qū)──或者在遠(yuǎn)紫外線處理區(qū)甚至更小──而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。

因?yàn)橄鄬?duì)濕度有一系列可能使?jié)崈羰铱傮w表現(xiàn)下降的因素，其中包括：

（1）細(xì)菌生長(zhǎng)。

（2）工作人員感到室溫舒適的范圍。

（3）出現(xiàn)靜電荷。

（4）金屬腐蝕。

（5）水汽冷凝。

（6）光刻的退化。

（7）吸水性。

細(xì)菌和其他生物污染（霉菌，病毒，真菌，螨蟲）在相對(duì)濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對(duì)濕度超過30%時(shí)就可以增長(zhǎng)。應(yīng)將濕度控制在處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至最低。

相對(duì)濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。濕度過高會(huì)使人覺得氣悶，而濕度低于30%則會(huì)讓人感覺干燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快。

高濕度實(shí)際上減小了潔凈室表面的靜電荷積累──這是人們希望的結(jié)果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當(dāng)相對(duì)濕度超過50%時(shí)，靜電荷開始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。

相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿意的折中，半導(dǎo)體潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。

很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運(yùn)的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng)；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。

此外，在高的相對(duì)濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)面影響；較低的相對(duì)濕度（約30%）使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑。

在半導(dǎo)體潔凈室中控制相對(duì)濕度不是隨意的。但是，隨著時(shí)間的變化，最好回顧一下常見的被普遍接受的實(shí)踐的原因和基礎(chǔ)。

你可能需要潔凈室的其它產(chǎn)品如：風(fēng)淋室??超凈工作臺(tái)??高效送風(fēng)口??傳遞窗??潔凈采樣車??潔凈棚等凈化設(shè)備產(chǎn)品。